1、抛光效率高：
绿碳化硅的硬度仅次于金刚石，莫氏硬度可达9.4。这种高硬度特性使得绿碳化硅磨料在抛光过程中能够迅速而有效地去除晶圆表面的微小瑕疵和划痕。通过光工艺，绿碳化硅可以确保晶圆表面达到较高的光滑度和平整度，这对于半导体器件的性能至关重要。
2、优异的耐磨性能：
绿碳化硅的耐磨性能优异，能够长时间保持锋利度，减少抛光过程中的阻力和摩擦，从而提高抛光效率。这意味着在晶圆抛光过程中，绿碳化硅磨料能够更长时间地保持快速的抛光状态，减少了更换磨料的频率，降低了生产成本。
3、粒度分布均匀：
绿碳化硅磨料的粒度分布集中且均匀，磨粒形状等积而具刃锋。这种特性使得绿碳化硅在抛光过程中能够形成均匀的抛光层，从而确保晶圆表面获得一致的抛光效果。
4、良好的热稳定性：
在抛光过程中，由于摩擦和切割产生的热量较高，而绿碳化硅具有良好的热稳定性，能够在高温下保持稳定的物理和化学性质。这种特性使得绿碳化硅能够在高温环境中进行抛光作业，而不会因高温而失去其硬度和耐磨性，从而确保了抛光质量的稳定性。
5、广泛的应用范围：
绿碳化硅不仅适用于晶圆抛光，还广泛应用于其他高精度加工领域，如光学玻璃抛光、宝石抛光等。其优异的性能和广泛的适用性使得绿碳化硅成为这些领域中的重要抛光材料。
